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称号：2024光掩模版与光刻胶技巧与阛阓论坛
时期：2024年12月26-27日
地方：江苏苏州
聚拢主持：亚化连络
]article_adlist-->日程安排
12月26日
16:00~20:00 会议注册
12月27日
09:00~12:00 演讲阐发
12:00~14:00 自助午餐与调换
14:00~18:00 演讲阐发
18:00~20:00 迎接晚宴
]article_adlist-->会议布景
跟着半导体产业的发展，国内在光掩模版和光刻胶高端居品的技巧与产能方面具有浩瀚的发展空间。
2018年至2022年，各人半导体掩模版阛阓限度从40.4亿好意思元增长至49亿好意思元，年复合增长率达到4.9%。瞻望到2024年，阛阓限度将不竭增长至53亿好意思元。中国大陆在光掩模版鸿沟的需求执续上涨，但在技巧和产能方面与国外跨越水平仍存在差距。高端光掩模版的国产化率仅为3%，大宗高端居品依赖入口。此外，光掩模电子束蚀刻等要道开拓的请托延长，严重影响了光掩模的坐褥经过和产量。Photronics、大日本印刷（DNP）和日本凸版印刷（Toppan）三家公司占据了各人80%以上的阛阓份额。国内坐褥光掩模的主要龙头企业包括好意思日丰创、上海凸版、济南泉意、广州新锐、迪念念微电子、中微掩模等。
2022年，各人光刻胶阛阓限度同比增长7.5%，达到近23亿好意思元。瞻望2021年至2026年时间，半导体光刻胶阛阓的年复合增长率为5.9%，其中利用于EUV和KrF的光刻胶增长最快。
中国光刻胶阛阓限度也在快速增长，瞻望2024年中国光刻胶阛阓限度将达到114亿元。当今，国内晶圆制造中使用的光刻胶仍以入口为主，尤其是在8英寸和12英寸产线上使用的先进光刻胶，有90%以上依赖入口。在ArF光刻胶鸿沟，国内厂商正在加速研发经过，并赢得了中枢破损。国内一些光刻胶龙头企业如上海新阳（维权）、南大光电、容大感光、广信材料、晶瑞电材等，在光刻胶的研发和坐褥方面赢得了显耀阐明。
“2024光掩模版与光刻胶技巧与阛阓论坛”将于2024年12月27日在苏州举行，由亚化连络主持。这次会议将会聚半导体行业的领军企业、技巧各人、学者和行业分析师，聚焦光掩模版及光刻胶在中国乃至各人半导体产业链中的要道作用，共同探讨掩模版及光刻胶产业的发展远景、最新技巧阐明、靠近的挑战和改日趋势。
]article_adlist-->会议主题
中国半导体光掩膜版与光刻胶阛阓方式与企业机遇
高端光掩膜版国产化旅途与技巧破损
光掩膜版与光刻胶在锻真金不怕火制程与先进制程中的利用
国内光掩膜版与光刻胶坐褥的瓶颈与供应链优化战略
国产化先进光刻技巧对半导体制造产能提高的影响
光刻胶在EUV与KrF技巧中的利用与发展趋势
光刻胶要道材料国产化经过与国外互助
光掩膜电子束蚀刻技巧的最新阐明与改日发展标的
ArF光刻胶的研发近况及中国阛阓后劲
中国光刻胶产业链的整合与自主改进智商提高
从研发到量产：光掩膜版与光刻胶技巧交易化旅途
]article_adlist-->援手决议
姿色 | 姿色试验 |
主题演讲 | 25分钟主题演讲 |
参会限额 | |
微信推送 | “半导体前沿”微信公众号， 企业先容以及关系软文 |
会刊告白 | 探讨会会刊， 彩色全页告白（尺寸A4） |
贵寓入袋援手 | 企业的宣传册放入会议包袋 |
现场展台 | 现场展示台，展示样品、贵寓， 含两个参会限额 |
现场易拉宝 | 现场1个易拉宝展示 |
礼品援手 | 印有援手商logo的礼品转圜参会听众 |
茶歇援手 | 冠名和援手会议时间的茶歇 |
晚宴援手 | 冠名和援手会议的迎接晚宴 |
Logo展示 | 布景墙 logo，会刊封面logo |
]article_adlist-->报名相貌
若是您挑升向参会/援手/阐发
敬请关系：朱司理17717602095 (微信同号）
扫描下方二维码添加朱司理微信：
亚化连络是国内跨越的新兴动力、材料鸿沟的产业智库，2008年建筑于上海浦东。业务范围：连络辩论、会议培训、产业中介。要点悭吝：新兴动力、材料产业，如煤化工、高端石化、光伏、氢能与燃料电板、生物动力材料、半导体、储能等。
]article_adlist-->（转自：半导体前沿）九游会j9体育(中国)官方网站
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